新成立的华辰微电子,位于庐州,与辰芯微(庐州)工厂一路之隔。
黄小婷同华威公司安排的副手纪年华在新年过去,迅速地拉起来了一支研发队伍。
江奕辰率先带着设计人员对EUV光刻机开展总体设计。
模拟+感应,两大S级技能同时开启。
结合此前改造光刻机曝光系统过程中,对光刻机结构的掌握,江奕辰花了一个月时间,就带队拿出了一个相对比较可行的设计图。
新型EUV光刻机设计,摆脱了阿斯麦那种激光光源轰击锡靶产生极紫外光的模式,转道选择了一种基于激光诱导气体等离子体技术。
这个技术,是江奕辰S级物理、材料,以及接连数月光电领域超强学习,触发一次万倍暴击实现了S级的光电学带来的技术质变。
更是模拟+感应两大S级技能联合作用发挥的巨大成果。
在设计过程中,江奕辰不时的进行模拟和感应,以便确定自己选择方向的正确性。
选择的时候,江奕辰能够看到不同选择道路的感应结果。
如果是正向反馈,该选择条会亮绿光。